真空中での薄膜を製造するための真空装置で様々な薄膜形成に利用されます。薄い膜を対象物の表面に均一に作製する装置で、物理的気相成長法（PVD法）の一つです。 シリコンウェハー、ガラス、金属材料、電子材料等への金属材料の膜付けを行います。
